300 MM WAFER-COMPATIBEL PVD-PLATFORM MET MEERDERE KAMERS

Description du marché

Minstens 9 proceskamers moeten op het platform ondersteund worden. Deze modules, inclusief eventuele robot transfer modules, moeten in staat zijn tot ultrahoog vacuüm (< 5x10-8 Torr), idealiter <5x10-9. De volgende proceskamers moeten ondersteund worden: 1) multi-kathode (>/= 4) PVD-kamer met een combinatie van RF- en/of DC- en/of gepulste DC-kathodes die in staat zijn tot minimaal 2-target co - sputteren en met sub-nanometer diktecontrole, met mogelijkheid tot de depositie van filmen bij verhoogde substraat temperatuur, 2) een voorreinigingskamer om natuurlijke oxiden en andere oppervlaktecontaminanten te verwijderen, 3) in-situ hoge temperatuursoven (>600C) die reactieve gassen kan injecteren, b.v. O2 en N2, 4) PVD-kamer (1 kathode) in staat tot hoge depositiesnelheden (>>1nm/s) en depositie verhoogde substraat temperatuur, 5) koelkamer (<100K). Het platform moet compatibel zijn met Universal Pods met opening aan de voorzijde met een capaciteit van 25 slots, inclusief een Equipment Front End Module voor het laden van wafers. Tenslotte moet de depositie computergestuurd en geautomatiseerd zijn volgens gedefinieerde recepten. Optioneel zou het platform compatibel moeten zijn met het automatisch uploaden van recepten vanuit fabrieksbeheersoftware via een gestandaardiseerd protocol, bijvoorbeeld SECS/GEM."

Pouvoir adjudicateur

Secteur d'activité

Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes)