Equipment- & Prozessspezifikationen Wafer Level Rasterkraftmikroskop für optische Absorptionsmessungen mit nm-Auflösung - PR659318 - 3340 - W
Description du marché
Diese Spezifikation beschreibt die Anforderungen an ein Mess- und Analysewerkzeug für die Waferfertigung bei FRAUNHOFER ENAS. Das System wird für die Bearbeitung von MEMS-Wafern in einem CMOS-kompatiblen Reinraum der Klasse 6 EN ISO 14644-1 und einer Produktionsumgebung eingesetzt. 2. Die detaillierte Konfiguration ist vom Anbieter nach dem aktuellen Stand der Technik zu bestimmen, um alle Spezifikationen zu erfüllen. Die detaillierte Endkonfiguration muss zwischen dem Anbieter und FRAUNHOFER ENAS vereinbart werden. 3. Wird ein Artikel / Wert als optional deklariert, so muss dieser als separate Position im Angebot inklusive der entsprechenden Kosten angegeben werden. 4. Der Anbieter kann zusätzliche Optionen im Angebot angeben, wenn diese die Leistung oder Flexibilität des Systems im Hinblick auf die Anforderungen in EPS verbessern.
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