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Award notice Instruments de mesure 🇪🇺 TED

ICP3 Ion etching system FIRST ETH Zurich

🌍 Suisse
Publication
18/03/2025
Date limite
—
Valeur estimée
—
Donneur d'ordre
—
Codes CPV
38000000

Description du marché

Livraison d'une installation de gravure ionique réactive avec plasma à couplage inductif, comprenant un système d'alimentation en gaz pour au moins 9 gaz, avec une pression de processus jusqu'à 100 mtorr et des flux de gaz jusqu'à 500 sccm, des générateurs RF/ICP dans la gamme des kW avec autotuning, surveillance spectroscopique du plasma, sas de chargement automatique pour un chargement rapide, pour des tailles d'échantillon à partir de 4 pouces de diamètre, avec régulation de la température de l'échantillon dans la gamme de 10 à 300°C.

Valeur estimée
482 245 EUR
Procédure
Appel d'offres ouvert
Nature du contrat
Fournitures
Lieu d'exécution
Zürich ETH Hönggerberg (CH040)
Lauréat
FR_Oxford Instruments GmbH

Pouvoir adjudicateur

🏛 ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services, Zürich
📋 Organisme de droit public
✉️ publictender@ethz.ch
🔗 https://www.ethz.ch
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Espagne

Questions fréquentes

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