Lieferung einer 2-Photonen-Lithografieanlage

Description du marché

Lieferung einer 2-Photonen-Lithografieanlage gemäß den Anforderungen der Leistungsbeschreibung (Anlage 1 der Vergabeunterlagen): - voll funktionsfähiges Laserlithografie-Gesamtsystem, basierend auf der Zwei-Photonen- Polymerisation (2PP), geeignet zur Herstellung dreidimensionaler und „hoher“ Oberflächenrelief-Strukturen (2,5-D Strukturen); insbesondere zur Erzeugung optisch funktionaler Strukturen und Elemente; - Integrierter Femtosekundenlaser; - Hochpräzise Strahl-Scan-Einrichtung; - Substrataufnahme und Positioniereinrichtung für das Substrat; - Prozesskamera zur Beobachtung des lithografischen Schreibprozesses; - Software für den Import von Strukturdaten zur Vorbereitung des 3D- bzw. 2,5D-Drucks und zur Übergabe der Daten an die Anlage; - Soft- und Hardware zum Betrieb der Gesamtanlage (inkl. Justierung, Kalibrierung, Steue-rung und Kontrolle der Anlage, sowie zur Dokumentation der Prozessparameter); - Vermeidung von Diskretisierungsstufen: anlagen- und softwarespezifische Möglichkeit zur Herstellung ‚glatter‘ (2,5D-) kontinuierlicher Oberflächen-Reliefstrukturen; - Anlagen- und softwarespezifische Möglichkeit zum Ausgleich von Substratneigungen („Tilt-Ausgleich“); - Mikroskopobjektiv, welches gleichzeitig eine hohe laterale und axiale Auflösung, ein gro-ßes Schreibfeld und einen großen Arbeitsabstand gewährleistet; - Erweiterungsmöglichkeiten, um sowohl größere Schreibbereiche bei geringerer Auflösung als auch eine höhere Auflösung bei kleineren Schreibbereichen vorzusehen; - Erweiterungsmöglichkeit zur Strukturierung der Endflächen optischer Fasern (Faser-Fa-cetten), wobei eine präzise Ausrichtung der Schreibbereiche relativ zur Fasergeometrie gewährleistet sein muss; - Dokumentation, Installation, Schulung.

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