Multitube thermal processing furnace (MTPF) for oxidation and LPCVD at the PSI PICO cleanroom

Description du marché

L’équipement à acquérir est un four de traitement thermique multitubes (MTPF en anglais, pour « Multitube thermal processing furnace »), essentiel au dépôt de matériaux destinés aux applications quantiques, photoniques et rayons X des groupes rattachés aux laboratoires LNQ et LXN, ainsi que pour l'ensemble des utilisateurs de la salle blanche du PSI. Le MTPF devra être configuré avec des tubes horizontaux et être capable de traiter, en un seul chargement, jusqu’à 50 wafers de 200 mm de diamètre, avec une excellente uniformité intra-wafer, inter-wafer et inter-lots. Le MTPF devra être doté d’une option d’automatisation permettant de traiter au moins 4 lots de 50 wafers, dans un ou plusieurs tubes, de manière séquentielle et sans intervention d’un opérateur. Le MTPF devra être livré avec quatre tubes compatibles 200 mm : – Tube 1 : oxydation thermique atmosphérique sèche et humide (tube en quartz jusqu'à 1050°C ; option tube SiC jusqu'à 1250°C) ; – Tube 2 : LPCVD de Si3N4 stœchiométrique pour applications photoniques et SiNx à faible contrainte pour la fabrication de membranes ; – Tube 3 : LPCVD de SiO2 à base de TEOS ; – Tube 4 : LPCVD de silicium polycristallin et amorphe. Le MTPF devra être installé à travers une paroi, la station de chargement étant située côté salle blanche et le reste de l'équipement (fours, racks électroniques, armoires à gaz, pompes et infrastructure associée) côté salle grise. L'équipement devra fonctionner en continue (24h/24, 7j/7) avec une disponibilité garantie d'au moins 90 % et une garantie minimale de 2 ans.

Pouvoir adjudicateur